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国家存储器基地三维闪存取得新突破
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【摘要】：
1月2日，正在建设中的国家存储器基地雏形初现。位于武汉光谷的该基地继成功研发中国首颗32层三维闪存芯片后，另一项技术取得新突破，为三维闪存带来前所未有的I/O高性能、更高的存储密度，以及更短的产品上市周期。国家存储器基地以芯片制造环节为突破口，集存储器产品设计、技术研发、晶圆生产与测试、销售于一体，全部建成后将填补我国主流存储器领域空白，为实现产业和经济跨越发展提供重要支撑。
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